Shandong Zhongshan Photoelectric Materials Co., Ltd

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Materiales de grabado de semiconductores/obleas

(Total 23 Products)
Trifluoroiodometano CAS: 2314-97-8 CF3I 99.99% de pureza de altura de agua Agente de químicos de grabado de agua

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Trifluoroiodometano CAS: 2314-97-8 CF3I 99.99% Agente de pureza alta para el grabado de agua de agua Uso del producto Como agente de extinción de incendios, el trifluoroiodometano tiene una alta eficiencia de extinción de incendios, buena seguridad...
Xenon Difluoride CAS: 13709-36-9 XEF2 99.999% 5N para grabado de semiconductores

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Xenon Difluoride CAS: 13709-36-9 XEF2 99.999% 5N para grabado de semiconductores Uso de productos El difluoruro de xenón se descompone en soluciones neutras o alcalinas, y es relativamente estable en soluciones ácidas. La solución acuosa tiene un...
Perfluorobuta-1 3-dieno C4F6 CAS: 685-63-299.99% 4n Materiales de grabado de semiconductores/obleas

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Perfluorobuta-1 3-dieno C4F6 CAS: 685-63-2 99.99% 4n Materiales de grabado de semiconductores/obleas Uso de productos Perfluorobuta-1 3-dieno (C 4 F 6 ) es un tipo de gas insoluble incoloro, inodoro e inodoro. A temperatura y presión normales, su...
C4F6 CAS: 685-63-2 Perfluorobutadeneno 99.99% 4n Semiconductor/Materiales de grabado de la oblea

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C4F6 CAS: 685-63-2 Perfluorobutadeneno 99.99% 4n Semiconductor/Materiales de grabado de la oblea Uso de productos El perfluorobutadieno (C 4 F 6 ) es un tipo de gas incoloro, inodoro e insoluble en agua. A temperatura y presión normales, su punto de...
Hexafluorobutadiene-1 3 C4f6 CAS: 685-63-2 99.99% 4n Materiales de grabado de semiconductores/obleas

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Hexafluorobutadiene-1 3 C4f6 CAS: 685-63-2 99.99% 4n Materiales de grabado de semiconductores/obleas Uso de productos El hexafluorobutadieno-1 3 (c 4 f 6 ) es una especie de gas insoluble incoloro, inodoro e inodoro. A temperatura y presión...
Hexafluorobutadieneno C4F6 CAS: 685-63-2 99.99% 4n Materiales de grabado de semiconductores

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Hexafluorobutadieno C4F6 CAS: 685-63-2 99.99% 4n Materiales de grabado semiconductor/oblea de grabado Uso de productos El hexafluorobutadieno (C 4 F 6 ) es una especie de gas insoluble incoloro, inodoro y de agua. A temperatura y presión normales,...
C4F6 Perfluorobutadieno CAS: 685-63-2 4N 99,99% de alta pureza para grabado de semiconductores

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C4F6 perfluorobutadieneno CAS: 685-63-2 4N 99.99% Alta pureza para el grabado de semiconductores El uso del producto perfluorobutadieneno (C4F6) es una especie de gas insoluble incoloro, inodoro y de agua. Su punto de fusión es 132.0 ℃, el punto de...
C4F6 CAS: 685-63-2 HEXAFLUORO-1 3-BUTADIENE 99.99% 4N Agente de grabado de chips 4n

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C4F6 CAS: 685-63-2 HEXAFLUORO-1 3-BUTADIENE 99.99% 4N agente de grabado de chips Uso de productos El hexafluoro-1,3-butadieno (C 4 F 6 ) es una especie de gas insoluble incoloro, inodoro y de agua. A temperatura y presión normales, su punto de...
Boron-10 Trifluoride CAS No 7637-07-2 BF3 Semiconductor Electronic Grade

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Boron-10 Trifluoride CAS No 7637-07-2 BF3 Semiconductor Electronic Grade Introducción del producto El isótopo 10 B tiene una absorción única de neutrones, y la sección transversal de absorción del neutrón térmico es 3837B, que es un absorbedor de...
Trifluoruro de fósforo /PF3 CAS: 7783-55-3 99.9% 3n

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Trifluoruro de fósforo/PF3 CAS: 7783-55-3 99.9% 3n Introducción del producto El trifluoruro de fósforo es un compuesto inorgánico con la fórmula química PF3. Es un gas tóxico incoloro e inodoro a temperatura y presión ambiente. Cuando es líquido, es...
Tantalum Pentafluoride CAS: 7783-71-3 TAF5 99.9%3N

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Tantalum Pentafluoride CAS: 7783-71-3 TAF5 99.9% 3N Introducción del producto Tantalum pentafluoruro (TAF5), con un peso molecular relativo de 276, punto de fusión de 96.8 ° C, punto de ebullición de 229.5 ° C, es un cristal blanco con una fuerte...
Pentafluoruro de fósforo CAS 7647-19-0 99.9%3n

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Pentafluoruro de fósforo CAS 7647-19-0 99.9% 3n Uso de productos PF5 a menudo se usa como agente fluorante en la síntesis orgánica. Puede introducir átomos de flúor en compuestos orgánicos, alterando significativamente sus propiedades. PF5 es...
Molibdeno hexafluoride mof₆ 99.99% 4n Cas#: 7783-77-9

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Molibdeno hexafluoride mof₆ 99.99% 4n Cas#: 7783-77-9 Uso de productos El hexafluoruro de molibdeno es un sólido cristalino blanco a baja temperatura, tiene una alta higroscópica, que puede producir humo azul en el aire húmedo y es un oxidante...
Germanio Tetrafluoride CAS: 7783-58-6 Alta pureza 99.999%5n Gef4 Materiales de proceso de semiconductores

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Germanio Tetrafluoride CAS: 7783-58-6 99.999%5n Gef4 Materiales de proceso de semiconductores Uso de productos El tetrafluoruro de germanio se usa para el dopaje y la implantación de iones en la industria de semiconductores. El tetrafluoruro de...
Boron-11 Trifluoride CAS: 7637-07-2 Grado electrónico de semiconductores

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Boron-11 Trifluoride CAS: 7637-07-2 BF₃ pureza 99.99%4n abundancia de 11 b 99.7% Introducción del producto El área de la sección transversal de absorción de 11 b isótopos para neutrones térmicos es de solo 0.005 B, y el dopante utilizado en el...
Schwefeltetrafluorid CAS: 7783-60-0 SF4 99% 2N para grabado con plasma e intermedio médico

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Schwefeltetrafluorid CAS: 7783-60-0 SF4 99% 2n para grabado en plasma e intermedio médico Uso de productos El agente de fluoración orgánica Schwefeltetrafluorid (SF4) es un agente de fluoración orgánica selectiva. El tetfluoruro de azufre causará...
Tetrafluoruro de azufre CAS: 7783-60-0 SF4 99% 2N para grabado con plasma e intermedio médico

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Tetrafluoruro de azufre CAS: 7783-60-0 SF4 99% 2N Para grabado con plasma e intermedio médico Uso del producto Agente de fluoración orgánico El tetrafluoruro de azufre (SF4) es un agente de fluoración orgánico selectivo. El tetrafluoruro de azufre...
Yodotrifluorometano CAS2314-97-8 99,99% 4N CF3I Alta pureza para semiconductores Materiales de proceso de extracción

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Yodotrifluorometano CAS2314-97-8 99,99% 4N CF3I de alta pureza para Materiales de proceso de ercado de semiconductores Uso del producto El yodotrifluorometano se puede utilizar como gas de grabado semiconductor, aislamiento de equipos eléctricos y...
Perfluoropropano CAS: 76-19-7 Semiconductor Etchant C3F8 Materiales de grabado de viruta de alta pureza 99,999% 5N

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Perfluoropropano CAS: 76-19-7 Semiconductor Etchant C3F8 Materiales de grabado de viruta de alta pureza 99,999% 5N Introducción del producto El perfluoropropano (C 3 F 8 ) es un tipo de gas inerte incoloro, inodoro y no inflamable. A temperatura y...
Trifluoruro de nitrógeno NF3 CAS: 7783-54-2 99,5% de alta pureza para gases especiales de ercado electrónico

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Trifluoruro de nitrógeno NF3 CAS: 7783-54-2 99,5% Alta pureza para electrónica grabado de gas especial Uso del productoEl trifluoruro de nitrógeno (NF 3 ) es un tipo de gas incoloro, inodoro y de carácter estable, también es un tipo de oxidante...
C3F8 Octafluoropropane CAS: 76-19-7 99,999% Materiales de grabado de obleas de alta pureza

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C3F8 Octafluoropropano CAS: 76-19-7 99,999% Materiales de grabado de obleas de alta pureza Uso del producto (C3F8) El octafluoropropano es un tipo de gas inerte incoloro, inodoro y no inflamable. Su punto de fusión es 183,0 ℃, el punto de ebullición...
Fluoruro de hidrógeno CAS: 7664-39-3 HF 99,999% de alta pureza para materiales de grabado de obleas

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Fluoruro de hidrógeno CAS: 7664-39-3 HF 99,999% Alta pureza para materiales de grabado de obleas Uso del producto El fluoruro de hidrógeno (HF), también conocido como ácido fluorhídrico, tiene un peso molecular de 20,01 y es un líquido transparente...
Tetrafluoruro de carbono CAS: 75-73-0 CF4 99,999% Gases especiales químicos de alta pureza

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Tetrafluoruro de carbono CAS: 75-73-0 CF4 99,999% Gases especiales químicos de alta pureza Uso del producto El tetrafluoruro de carbono es un gas fácilmente comprimible con alta volatilidad. Es uno de los compuestos orgánicos más estables y no es...

China Materiales de grabado de semiconductores/obleas Proveedores

La innovación de los materiales de grabado ZSEM cumple con los requisitos desafiantes del crecimiento continuo, y ahora se pueden producir una variedad de gases que contienen flúor de alta pureza para servir fábricas de chips y hacer chips de obleas de tamaño cada vez mayor.

El gas de grabado fabricado por nuestra compañía suele ser el gas fluoruro, incluido el tricloruro de boro 11, el perfluoro butadieno, el fluoruro de carbonilo, el trifluoroiodometano, el difluoruro de xenón, el octafluoropropano, el trifluoruro de nitrógeno, el tetrafluoruro de carbonia, fluoruro de hidrógeno de alta pureza, etc.

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